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Conference papers
MoS2 Transistors with Electrografted Organic Ultrathin Film as Efficient Gate Dielectric
Hugo Casademont
1
Laure Fillaud
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Xavier Lefèvre
1
Renaud Cornut
1
Bruno Jousselme
1
Vincent Derycke
1
1
LICSEN - Laboratoire Innovation en Chimie des Surfaces et NanoSciences
NIMBE UMR 3685 - Nanosciences et Innovation pour les Matériaux, la Biomédecine et l'Energie (ex SIS2M)
Bruno Jousselme 1
Author
Vincent Derycke 1
Author
1
LICSEN - Laboratoire Innovation en Chimie des Surfaces et NanoSciences (LICSEN, NIMBE, CEA, CNRS, Université Paris-Saclay, CEA Saclay 91190 Gif sur Yvette - France)
- NIMBE UMR 3685 - Nanosciences et Innovation pour les Matériaux, la Biomédecine et l'Energie (ex SIS2M) (NIMBE, CEA, CNRS, Université Paris-Saclay, CEA Saclay 91190 Gif sur Yvette - France)
- IRAMIS - Institut Rayonnement Matière de Saclay : DRF/IRAMIS (91191 Gif-sur-Yvette, France - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives : DRF/IRAMIS (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
- Université Paris-Saclay (Espace Technologique, Bat. Discovery - RD 128 - 2e ét., 91190 Saint-Aubin - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR3685 (France)
- IRAMIS - Institut Rayonnement Matière de Saclay : DRF/IRAMIS (91191 Gif-sur-Yvette, France - France)
Document type :
Conference papers
Domain :
Complete list of metadata
https://hal-cea.archives-ouvertes.fr/cea-02352759
Contributor : Serge Palacin <>
Submitted on : Thursday, November 7, 2019 - 8:06:50 AM
Last modification on : Thursday, July 1, 2021 - 4:44:40 PM
Contributor : Serge Palacin <>
Submitted on : Thursday, November 7, 2019 - 8:06:50 AM
Last modification on : Thursday, July 1, 2021 - 4:44:40 PM
Identifiers
- HAL Id : cea-02352759, version 1
Collections
CEA | CNRS | PUBNIMBE | IRAMIS-NIMBE | CEA-UPSAY | INC-CNRS | IRAMIS | GS-CHIMIE | GS-ENGINEERING | INSTITUT-SCIENCES-LUMIERE
Citation
Hugo Casademont, Laure Fillaud, Xavier Lefèvre, Renaud Cornut, Bruno Jousselme, et al.. MoS2 Transistors with Electrografted Organic Ultrathin Film as Efficient Gate Dielectric. Imagine Nano, Mar 2015, Bilbao, Spain. ⟨cea-02352759⟩
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