Influence of Er concentration on the emission properties of Er-doped Si-rich silica films obtained by reactive magnetron co-sputtering

Optique / photonique Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Electromagnétisme Physique Numérique [physics.comp-ph] Optique [physics.optics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique Matériaux Matériaux

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Soumis le : jeudi 7 octobre 2021-09:23:42

Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-13:36:03

Dates et versions

hal-03368861 , version 1 (07-10-2021)

Identifiants

HAL Id : hal-03368861 , version 1
DOI : 10.1016/j.optmat.2004.08.035

Citer

M. Carrada, F. Gourbilleau, C. Dufour, M. Levalois, R. Rizk. Influence of Er concentration on the emission properties of Er-doped Si-rich silica films obtained by reactive magnetron co-sputtering. Optical Materials, 2005, 27 (5), pp.915-919. ⟨10.1016/j.optmat.2004.08.035⟩. ⟨hal-03368861⟩

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