Electrostatic immobilization of polyoxometallates on silicon: X-ray Photoelectron Spectroscopy and electrochemical studies

Benoit Fleury (1, 2) , Martial Billon (3, 4) , Florence Duclairoir (5, 3) , Lionel Dubois (5, 3) , Aurélien Fanton (6) , Gérard Bidan (1)

1 INAC - Institut Nanosciences et Cryogénie
2 ERMMES - Equipe de Recherche en Matériaux Moléculaires et Spectroscopies
3 SPRAM - UMR 5819 - Structures et propriétés d'architectures moléculaire
4 CREAB - Chimie pour la Reconnaissance et l’Etude d’Assemblages Biologiques
5 RICC - Reconnaissance Ionique et Chimie de Coordination
6 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domaines: Chimie

Benoit Fleury, Martial Billon, Florence Duclairoir, Lionel Dubois, Aurélien Fanton, et al.. Electrostatic immobilization of polyoxometallates on silicon: X-ray Photoelectron Spectroscopy and electrochemical studies. Thin Solid Films, 2011, 519 (11), pp.3732-3738. ⟨10.1016/j.tsf.2011.01.341⟩. ⟨hal-02479890⟩