Dry etching study of 3D Grayscale micrometric patterns into a polymer layer - CEA - Commissariat à l’énergie atomique et aux énergies alternatives Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Dry etching study of 3D Grayscale micrometric patterns into a polymer layer

Domaines

Physique [physics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique Sciences de l'ingénieur [physics] Plasmas Matériaux
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Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

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https://cea.hal.science/cea-03773457

Soumis le : vendredi 9 septembre 2022-11:17:55

Dernière modification le : mercredi 3 avril 2024-11:14:12

Archivage à long terme le : samedi 10 décembre 2022-18:25:45

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Dates et versions

cea-03773457 , version 1 (09-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : cea-03773457 , version 1

Citer

Assia Selmouni, Aurélien Tavernier, Sébastien Bérard-Bergery, Nicolas Posseme. Dry etching study of 3D Grayscale micrometric patterns into a polymer layer. MNE2022 Eurosensors - PESM Workshop, Micro and Nano Engineering, Sep 2022, Leuven, Belgium. ⟨cea-03773457⟩

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