T. L. Hyeon-;-b)-b, V. L. Cushing, C. J. Kolesnichenko, ;. C. O'connor, C. Desvaux et al., Chem. Commun, vol.104, pp.750-753, 2003.

S. L. Sun-;-d and . Huber, Adv. Mater, vol.18, pp.482-501, 2005.

H. Kodama, S. Momose, N. Ihara, T. Uzamaki, A. B. Tanaka-;-b)-s et al., Appl. Phys. Lett, vol.83, pp.1337-1341, 2003.

H. Kodama, S. Momose, T. Sugimoto, T. Uzumaki, and A. Tanaka, IEEE Trans. Magn, vol.41, pp.665-669, 2005.

Q. A. Pankhurst, J. Connolly, S. K. Jones, J. Dobson-;-b, ). X. Gao et al., J. Phys. D: Appl. Phys, vol.36, pp.949-952, 2003.

S. Sun, C. B. Murray, D. Weller, L. Folks, and A. Moser, Science, vol.287, pp.1989-1992, 2000.

E. V. Shevchenko, D. V. Talapin, A. L. Rogach, A. Kornowski, M. Haase et al., J. Am. Chem. Soc, vol.124, pp.11480-11485, 2002.

S. S. Kang, D. E. Nikles, and J. W. Harrell, J. Appl. Phys, vol.93, pp.7178-7180, 2003.

S. Sun, . Us, and . Pat, , vol.6, pp.676-729, 2004.

M. Chen, J. P. Liu, and S. Sun, J. Am. Chem. Soc, vol.126, pp.8394-8395, 2004.

L. E. Howard, H. Nguyen, S. R. Giblin, B. K. Tanner, I. Terry et al., J. Am. Chem. Soc, vol.127, pp.10140-10141, 2005.

B. Jeyadevan, K. Urakawa, A. Hobo, N. Chinnasamy, K. Shinoda et al., Jpn. J. Appl. Phys, vol.42, p.350, 2003.

A. Bonakdarpour, J. Wenzel, D. A. Stevens, S. Sheng, T. L. Monchesky et al., J. Electrochem. Soc, vol.152, pp.61-72, 2005.

G. Weidemann, G. Brezesinski, D. Vollhardt, C. Dewolf, and H. Möhwald, Langmuir, vol.15, pp.2901-2910, 1999.

N. Shukla, C. Liu, and A. G. Roy, Mater. Lett, vol.60, pp.995-998, 2006.

B. Jeyadevan, A. Hobo, K. Urakawa, C. N. Chinnasamy, K. Shinoda et al., J. Appl. Phys, vol.93, pp.7574-7576, 2002.

A. E. Berkowitz, J. A. Lahut, I. S. Jacobs, and L. M. Levinson, Phys. Rev. Lett, vol.34, pp.594-597, 1975.

X. W. Wu, C. Liu, L. Li, P. Jones, R. W. Chantrell et al., J. Appl. Phys, vol.95, pp.6810-6812, 2004.

E. C. Stoner and E. P. Wohlfarth, Phil. Trans. Roy. Soc, vol.240, pp.599-642, 1948.

C. P. Bean and J. D. Livingston, J. Appl. Phys, pp.120-129

A. Kussman and G. V. Rittberg, Z. Metallk. Metallforsch, vol.41, p.470, 1950.

X. W. Wu, C. Liu, L. Li, P. Jones, R. W. Chantrell et al., J. Appl. Phys, vol.95, pp.6810-6812, 2004.

S. Anders, M. F. Toney, T. Thomson, J. Thiele, B. D. Therris et al., J. Appl. Phys, vol.93, pp.7343-7345, 2003.

B. Stahl, N. S. Gajbhiye, G. Wilde, D. Kramer, J. Ellrich et al., Adv. Mater, vol.14, pp.24-27, 2002.

M. Nakaya, M. Kanehara, and T. Teranishi, Langmuir, vol.22, pp.3485-3487, 2006.

S. Saita and S. Maenosono, Chem. Mater, vol.17, pp.6624-6634, 2005.

N. Shukla, E. B. Svedberg, J. Ell, A. J. Roy, ;. M. Chen et al., J. Am. Chem. Soc, vol.60, pp.7132-7133, 2006.