DNA Origami Mask for Sub-Ten-Nanometer Lithography

Cheikh Tidiane Diagne; Christophe Brun; Didier Gasparutto; Xavier Baillin; Raluca Tiron

doi:10.1021/acsnano.6b00413

Article Dans Une Revue ACS Nano Année : 2016

DNA Origami Mask for Sub-Ten-Nanometer Lithography

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Cheikh Tidiane Diagne

Fonction : Auteur
PersonId : 794492
ORCID : 0000-0003-2119-9349
IdRef : 177276819

Christophe Brun

Fonction : Auteur

MINACOM

Didier Gasparutto

Fonction : Auteur
PersonId : 758571
ORCID : 0000-0002-7984-6177
IdRef : 112491766

Chimie pour la Reconnaissance et l’Etude d’Assemblages Biologiques

Xavier Baillin

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Raluca Tiron

Fonction : Auteur
PersonId : 953199

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domaines

Chimie Physique [physics] Matière Condensée [cond-mat]

Didier Gasparutto : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://cea.hal.science/cea-02074329

Soumis le : mercredi 20 mars 2019-15:38:52

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Dates et versions

cea-02074329 , version 1 (20-03-2019)

Identifiants

HAL Id : cea-02074329 , version 1
DOI : 10.1021/acsnano.6b00413

Citer

Cheikh Tidiane Diagne, Christophe Brun, Didier Gasparutto, Xavier Baillin, Raluca Tiron. DNA Origami Mask for Sub-Ten-Nanometer Lithography. ACS Nano, 2016, 10 (7), pp.6458-6463. ⟨10.1021/acsnano.6b00413⟩. ⟨cea-02074329⟩

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