Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor - CEA - Commissariat à l’énergie atomique et aux énergies alternatives Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor

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Dates et versions

cea-01993877 , version 1 (25-01-2019)

Identifiants

  • HAL Id : cea-01993877 , version 1

Citer

Anthony Valero, Dorian Gaboriau, P. Gentile, Saïd Sadki. Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor. 233rd ECS MEETING, May 2018, Seattle, WA, United States. ⟨cea-01993877⟩
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